寄付 2024年9月15日 – 2024年10月1日 募金について

Основы нанотехнологии ионного наслаивания

  • Main
  • Основы нанотехнологии ионного...

Основы нанотехнологии ионного наслаивания

Толстой В.П.
この本はいかがでしたか?
ファイルの質はいかがですか?
質を評価するには、本をダウンロードしてください。
ダウンロードしたファイルの質はいかがでしたか?
В учебном пособии впервые излагаются основы химической сборки наноматериалов методом ионного наслаивания (ИН) как одного из современных методов, применяемых в нанотехнологии. В тексте последовательно рассматриваются суть метода ИН, краткая история его развития, закономерности адсорбции ионов неорганических соединений на границе раздела оксид (гидроксид) металла - водный раствор, алгоритм поиска оптимальных условий послойного синтеза с использованием программ расчета равновесий в растворах комплексных соединений, анализируются варианты морфологии синтезированных нанослоёв, излагаются принципы устройства основных типов лабораторных установок для синтеза и рассматриваются примеры синтеза нанослоёв широкого круга соединений. В заключение приводятся примеры применения метода ИН для решения практически важных задач создания активных элементов электрохимических и газовых сенсоров, коррозионно-стойких защитных покрытий на поверхности металлов и нано- и микрокапсул для адресной доставки лекарственных препаратов, а также текст методических указаний к лабораторной работе, посвященной синтезу методом ИН слоёв гидратированного оксида марганца (III, IV).
Учебное пособие предназначено для студентов и аспирантов вузов, специализирующихся в области химии твердого тела, неорганической химии и химии наноматериалов, а также специалистов, работающих в данных областях.
年:
2020
出版社:
Санкт-Петербургский государственный университет
言語:
russian
ページ:
142
ISBN 10:
5600025866
ISBN 13:
9785600025868
ファイル:
PDF, 4.68 MB
IPFS:
CID , CID Blake2b
russian, 2020
オンラインで読む
への変換進行中。
への変換が失敗しました。

主要なフレーズ