Основы нанотехнологии ионного наслаивания
Толстой В.П.
В учебном пособии впервые излагаются основы химической сборки наноматериалов методом ионного наслаивания (ИН) как одного из современных методов, применяемых в нанотехнологии. В тексте последовательно рассматриваются суть метода ИН, краткая история его развития, закономерности адсорбции ионов неорганических соединений на границе раздела оксид (гидроксид) металла - водный раствор, алгоритм поиска оптимальных условий послойного синтеза с использованием программ расчета равновесий в растворах комплексных соединений, анализируются варианты морфологии синтезированных нанослоёв, излагаются принципы устройства основных типов лабораторных установок для синтеза и рассматриваются примеры синтеза нанослоёв широкого круга соединений. В заключение приводятся примеры применения метода ИН для решения практически важных задач создания активных элементов электрохимических и газовых сенсоров, коррозионно-стойких защитных покрытий на поверхности металлов и нано- и микрокапсул для адресной доставки лекарственных препаратов, а также текст методических указаний к лабораторной работе, посвященной синтезу методом ИН слоёв гидратированного оксида марганца (III, IV).
Учебное пособие предназначено для студентов и аспирантов вузов, специализирующихся в области химии твердого тела, неорганической химии и химии наноматериалов, а также специалистов, работающих в данных областях.
Учебное пособие предназначено для студентов и аспирантов вузов, специализирующихся в области химии твердого тела, неорганической химии и химии наноматериалов, а также специалистов, работающих в данных областях.
年:
2020
出版社:
Санкт-Петербургский государственный университет
言語:
russian
ページ:
142
ISBN 10:
5600025866
ISBN 13:
9785600025868
ファイル:
PDF, 4.68 MB
IPFS:
,
russian, 2020