Плазменная технология в производстве СБИС

Книга ведущих специалистов из США и Японии, в которой рассмотрены вопросы физики, химии и технологии применения плазменной обработки в производстве СБИС.
Это своеобразная энциклопедия по физики, химии процессов осаждения, литографии и травления с применением ионно плазменных методов.
Книга предназначена для специалистов в области физики и химии плазмы, технологии микроэлектроники, а также для студентов соответствующих специальностей.
В книге рассмотрены вопросы напыления тонких пленок различных соединений. Достаточно подробно рассмотрены вопросы химического и плазмохимического осаждения тонких диэлектрических пленок, в том числе нитрида и оксида кремния. Описаны физические и химические процессы реактивного и ионного травления, особое внимание уделено технологическим аспектам процессов производства СБИС.