Плазменные технологии в микроэлектронике. Часть 3. Кинетика...

Main
Плазменные технологии в...

Плазменные технологии в микроэлектронике. Часть 3. Кинетика процессов реактивного ионно-плазменного травления полупроводников в галогенсодержащей плазме

Владимирова Людмила Николаевна, Дикарев Юрий Иванович, Рубинштейн Владимир Михайлович, Петраков Владимир Иванович

0 / 0

この本はいかがでしたか？

ファイルの質はいかがですか？

質を評価するには、本をダウンロードしてください。

ダウンロードしたファイルの質はいかがでしたか？

言語:

russian

ページ:

21

ファイル:

PDF, 480 KB

IPFS:

,

russian0

オンラインで読む

への変換進行中。

への変換が失敗しました。

こちらはいかがでしょうか？

Стоянов Николай Иванович — Теоретические основы теплотехники

Максимов А.И. — ПЛАЗМОХИМИЯ НЕРАВНОВЕСНЫХ ПРОЦЕССОВ

Казан. гос. технол. ун-т , Абдуллин И. Ш., Барабанов В. П. — Вестник Казанского технологического университета: Т. 14. № 12. 2011

Абдуллин И. Ш., Желтухин В. С., Сагбиев И. Р., Шаехов М. Ф., Казан. гос. технол. ун-т — Модификация нанослоев в высокочастотной плазме пониженного давления

Сагбиев И. Р. — ВЧ плазменная модификация поверхностных нанослоев металлов

Пичугин В. Ф. — Ионно-плазменные методы модифицирования поверхности и создания биосовместимых покрытий для медицинского применения

Беззубцева М. М., Волков В. С., Котов А. В., Обухов К. Н. — Инновационные электротехнологии в АПК

Сандаков — Термодинамика

И. Ш. Абдуллин — Модификация нанослоев в высокочастотной плазме пониженного давления : монография

Нарайкин, О.С. — Введение в микросистемную технику

А.С. Кувшинова — ТЕХНИЧЕСКАЯ ТЕРМОДИНАМИКА И ТЕПЛОТЕХНИКА : Учебно-методическое пособие

Ю.А. Юраков — Получение пористого кремния

Бахратов, А.Р. — Тестовые задачи по технологии микромеханических гироскопов и акселерометров

Кузнецов Г.Д., Кушхов А.Р. — Ионно-плазменная обработка металлов. Курс лекций.

Удовиченко С.Ю. — Пучково-плазменные технологии для создания материалов и устройств микро - и наноэлектроники. Часть 2-я

Григорьев Ф.И. — Плазмохимическое и ионно-химическое травление в технологии микроэлектроники

Владимирова Людмила Николаевна, Дикарев Юрий Иванович, Рубинштейн Владимир Михайлович, Петраков Владимир Иванович — Плазменные технологии в микроэлектронике. Часть 2. Особенности радикального травления полупроводниковых материалов в галогенсодержащей плазме

Владимирова Людмила Николаевна, Дикарев Юрий Иванович, Рубинштейн Владимир Михайлович, Петраков Владимир Иванович — Плазменные технологии в микроэлектронике. Часть 1. Плазмохимическое травление материалов электронной техники

Сандаков — Термодинамика

Кувшинова А.С. — ТЕХНИЧЕСКАЯ ТЕРМОДИНАМИКА И ТЕПЛОТЕХНИКА

Максимов А.И. — ПЛАЗМОХИМИЯ НЕРАВНОВЕСНЫХ ПРОЦЕССОВ

Роготовский — Изучение технологии подготовки проб чугунов и сталей для металлографического и спектрального анализа (80,00 руб.)

Волков А. В. — Исследование технологических режимов плазменного ионно-химического травления на установке "Caroline PE15" [Электронный ресурс] : электрон. учеб.-метод. пособие

Сагбиев И. Р. — ВЧ плазменная модификация поверхностных нанослоев металлов (190,00 руб.)

Кувшинова А.С. — ТЕХНИЧЕСКАЯ ТЕРМОДИНАМИКА И ТЕПЛОТЕХНИКА (190,00 руб.)

Воронин Александр Ильич — Современные проблемы теплогазоснабжения населенных мест и предприятий (190,00 руб.)

Лукичев Владимир Федорович — Труды Физико-технологического института Академии наук

Максимов А.И. — ВВЕДЕНИЕ В НЕЛИНЕЙНУЮ ФИЗИЧЕСКУЮ ХИМИЮ

Мартыненко Ю. В. — Плазменная нанотехнология. Ч. 1

Ефремова, К.Д. — Физические основы пневматических систем

Потловский, К.Г. — Нанотехнологии и микромеханика. Ч. 6. Базовые технологические процессы микросистемной техники

Жуков Б. Д. — Физическая химия: краткий курс

Казан. гос. технол. ун-т — Низкотемпературная плазма в процессах нанесения функциональных покрытий

Булидорова Г. В., Галяметдинов Ю. Г., Ярошевская Х. М., Барабанов В. П., Казан. гос. технол. ун-т — Основы химической термодинамики

Солодова Н. Л. — Волновые технологии в нефтедобыче и нефтепереработке (190,00 руб.)

主要なフレーズ

травления

процесса

aгентство

давления

поверхности

процессов

процессы

физического

ионизации

материала

мощности

травление

напряжения

плазменного

поверхность

включить

диффузионного

химического

электронов

параметров

проконтролировать

реактивного

технологии

факторов

химически

взаимодействия

воздействия

изменение

нейтральных

низкотемпературной